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半導體超聲波清洗機在清洗上的優(yōu)勢

更新時間:2016-08-25點擊次數(shù):1860
   普通的清洗方法一般不能達到孔內(nèi),而孔內(nèi)芯料的反應生成物及其他污染物會在后序工藝中會產(chǎn)生重復污染。無論是采用有機溶劑或是清洗液清洗都容易引入新的污染源,然而利用半導體超聲波清洗機清洗技術卻可以實現(xiàn)無重復污染,而且能深入MCP孔內(nèi)的效果。對不同材料及孔徑的MCP應采用頻率、聲強可調(diào)的超聲波進行實驗,以確定實際工藝參數(shù)。對孔徑6~12μmMCP的清洗,當媒液為水和乙醇時,可采用空化閾約1/3 W/cm2,聲強10~20 W/cm2,頻率20~120 kHz的超聲波進行清洗。表1是同一段不同板號的MCP采用不同頻率超聲波清洗后表觀及電性能測試結果。由檢測結果可見,對1μm以下的小顆粒污染物,應選用頻率40 kHz以上的超聲波進行清洗。
  在半導體超聲波清洗機(硅片)的清洗過程中,清洗液的溫度是一個關鍵因素。合適的清洗溫度能夠加快油污的去除,得到*的清洗效果。當硅片浸到清洗液中,硅片上的油污產(chǎn)生膨脹,油污內(nèi)部以及油污與硅片之間的作用力減弱,溫度越高,油污膨脹越大,這種作用力就越弱,表面活性劑分子越容易將油污撬離硅片表面。同時,溫度的變化可導致膠束本身性質(zhì)和被增溶物在膠束中溶解情況發(fā)生變化。聚氧乙烯型表面活性劑的聚氧乙烯鏈(CH2CH2O)n在水中產(chǎn)生水合作用,與水分子中的氫形成氫鍵。溫度升高,氫鍵減弱,有的甚至斷裂,水合作用減小,膠束易于形成,膠束的聚集數(shù)亦顯著地增加,對油脂等污染物的增溶量增大,這種情況有利于半導體超聲波清洗機的清洗。當溫度升高到60℃左右時,聚氧乙烯鏈(CH2CH2O)n加速脫水并產(chǎn)生卷縮,使膠束起增溶的空間減小,增容能力下降,清洗液由透明變成乳濁液,這一溫度稱做溶液的濁點溫度。只有溫度接近表面活性劑溶液的濁點溫度時,增溶能力zui強,因而清洗液的溫度定在60℃比較合理。

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